高周波パルスプラズマ発生器

Product Introduction

聚創の超高電力高周波パルスプラズマ電源をご紹介します。特徴は100MHzデジタルコントローラー、20ns未満のアーク抑制、およびスケーラブルなスタッキングです。

ハイエンド真空熱処理、プラズマ窒化、物理蒸着（PVD）において、電源の安定性が表層の最終品質を決定します。標準的な直流（DC）電源は、プラズマ放電の不安定性、エネルギー伝達の遅さ、および繊細で高価な金型を破壊し得るアークバーンのリスクが高いという問題に直面することが多いです。

これらの技術的なボトルネックを解決するため、江蘇巨創自動化技術有限公司は超高電力高周波パルスプラズマ発生器を開発しました。独自の知的財産権に支えられたこの次世代電源は、電圧と電流を瞬時にピーク値まで上昇させ、真空チャンバー内のガスイオン化率を大幅に向上させます。これは、先進的な材料改質と高速工具コーティングのための究極の高エネルギーエンジンです。

1. 電力と効率の3つの柱

当社の高周波パルスプラズマ技術は、3つのコア運用優位性により、伝統的な真空処理を完全に変革します：

効率革命

高エネルギーで集中的なパルスを供給することで、発生器は原子スケールでの化学拡散を加速します。これにより、コアの活性窒化プロセスフェーズがわずか1～2時間に短縮されます（標準的なチャンバー加熱および冷却サイクルを除く）。この大幅な速度向上により、電力消費量が削減され、工場の総運営コストが低減されます。

卓越した性能

高いイオン化率により、活性窒素原子が鋼マトリックスにより深く、より速く侵入します。これにより、100マイクロメートル（um）を超える深い拡散層を持つ超密で均一な化合物層が形成されます。ワークピースは、機械的摩耗、繰り返し疲労、および腐食に対する優れた耐性を獲得します。

絶対的な処理安全性

局所的なアーク放電が高価な金型を損傷するのを防ぐため、当社の電源は超高速デジタル監視ユニットを搭載しています。システムは異常を検出し、20ナノ秒（ns）未満でアークを抑制します。この瞬間的な応答により、アークバーンのリスクが完全に排除され、繊細な金型のエッジが保護され、高いバッチ歩留まりが保証されます。

2. 高度なデジタル制御とアーク抑制

巨創のパルス発生器のコアには、100 MHzのサンプリング周波数で動作する高速デジタルコントローラーがあります。これは、3つの重要な運用フェーズにわたる高精度なリアルタイム制御をサポートします：

アークチェックエネルギー（E0）：放電電圧と電流を継続的に追跡し、グロー放電からアーク放電への移行の最も初期の兆候を捉えます。
アークアクションエネルギー（E1）：システムが真のマイクロアークイベントを登録する瞬間的な検出ウィンドウ。
アーク抑制エネルギー（E2）：即時のシャットダウンとエネルギー散逸サイクル。

このスマートなエネルギー管理により、最大パルス電力時間が100ナノ秒（ns）未満に維持され、非常に安定した矩形波が生成されます。これにより、エネルギースパイクが防止され、処理サイクル全体を通じてスムーズで連続的なプラズマグローが維持されます。

3. スケーラブルなスタック出力アーキテクチャ

航空宇宙用の重いギアや45トンのスタンピング金型の処理など、大規模な産業運用では、単一の電源では不十分です。当社のシステムは、高度に統合されたモジュール式キャビネットレイアウトで構築されており、image_0043d8.pngに示されているように、スタックされた並列出力をサポートします：

最大8台のスタックモジュール：顧客は、超大型真空チャンバーの容量と負荷要件に合わせて、最大8台の発生器電源を並列に接続できます。
インテリジェントマスタースレーブ制御：モジュールがリンクされている場合、オペレーターはマスター制御端末でパラメーターを設定するだけで済みます。システムは自動的にすべての接続されたスレーブユニットを構成し、同期させます。
自動同期アーク応答：スタック構成では、並列バスがすべてのモジュール間でアーク保護を同期させます。1つのユニットがアークイベントを検出した場合、ネットワーク全体が同時に反応してワークピースを保護します。
動的電力配分：システムは、リアルタイムの真空条件と負荷表面積に応じて、アクティブな電力ユニットを自動的にスケールアップまたはスケールダウンし、ピークエネルギー利用率と長いハードウェア寿命を確保します。

4. 主な技術仕様

当社のパルスプラズマ発生器は、高精度の部品で設計されており、連続的かつ重負荷の産業実行を保証します：

性能指標 / パラメータ	技術仕様と制御範囲
出力パルス周波数	1 kHz～20 kHz（デジタルコントローラーにより精密に調整可能）
アーク抑制応答	20ナノ秒（ns）未満
サンプリングおよび制御レート	100 MHz高速デジタルサンプリングバス
最大パルス立ち上がり時間	ピーク電力に到達するまで100ナノ秒（ns）未満
モジュール式スケーラビリティ	単一の並列バスレイアウトで最大8台の電源ユニット
制御インターフェース	マスタースレーブ自動構成を備えた光ファイバー絶縁並列バス
互換プロセス	プラズマ窒化、PACVD、PVDスパッタリング、イオン注入

5. 主な産業用途

巨創の高周波パルスプラズマ電源は、伝統的な真空表面処理システムをアップグレードするための理想的なエンジンです：

産業用窒化炉：伝統的な低効率DCシステムを高速パルスプラズマ窒化装置にアップグレード。
高性能PVDスパッタリング：液滴欠陥なしに硬いターゲットブロックを蒸発させるための安定した高イオン化電力を提供。
低温PACVD（DLCコーティング）：安定した低温プラズマ場を維持し、密で低摩擦のダイヤモンドライクカーボンコーティングを堆積。
リトロフィット電源アップグレード：既存の真空チャンバーの古くて低効率な電源システムを交換し、サイクル速度を向上させ、エッジバーンを排除。